MKP
Pfeiffer真空測量Pfeiffer真空測量
DuoLine Vacuum PumpDuoLine Vacuum Pump
Diaphragm PumpDiaphragm Pump
Hicube EcoHicube Eco
Pfeiffer真空測量Pfeiffer真空測量DuoLine Vacuum PumpDuoLine Vacuum PumpDiaphragm PumpDiaphragm PumpHicube EcoHicube EcoMKP
Maru 7000 PI
SEMI標(biāo)準(zhǔn)質(zhì)量流量控制器，壓力不敏感型
流量范圍：5sccm 至 30slm
MARU9000
最佳全新技術(shù)，線性度良好, 精確度控制在設(shè)定值±0.5%范圍以內(nèi)
流量范圍：5sccm 至 30slm
MARU7000
裝裁技能提高產(chǎn)品的安全性，多環(huán)境選擇使用
流量范圍：5sccm 至 30slm
MARU5000
最初的半導(dǎo)體自做用MFC. CVD公定里主要使用
流量范圍：5sccm 至 30slm
MARU3000
基本型 MFC. 響應(yīng)確認(rèn)度和回答度等重要性能與高端機型同等水平
流量范圍：30sccm 至 30slm
ARA5000
專為半導(dǎo)體工藝氣體監(jiān)測設(shè)計,保障前后段壓力劇變下的流量測量安全性與穩(wěn)定性，
流量范圍：5sccm 至 30slm
MARU8000HT
高溫環(huán)境里氣化的控制前驅(qū)體. 高溫環(huán)境里測定和控制技術(shù)計劃持續(xù)開發(fā)
流量范圍：300sccm 至 5slm
MADEE5000
型平板顯示器制造工廠里主要使用，是半導(dǎo)體制造公證主要活映在工藝腔體中
流量范圍：300sccm 至 2slm
ARI 7000
用于半導(dǎo)體進程的'液體材料'的為了使絕緣膜更薄、更均勻地沉積
流量范圍：0.5 to 1g/min
BARON3000
可以遠程調(diào)控壓力. 并且一般來說壓力會隨著流量的增加而減小
壓力范圍：10Torr~100Torr
